IBM et plusieurs partenaires annoncent vouloir développer une technologie de gravure en 28 nm pour des processeurs plus performants et moins gourmands en énergie pour téléphones portables et autres appareils mobiles.




IBM relance la course à la technologie de gravure en annonçant sa volonté de développer, avec ses partenaires Chartered Semiconductor Manufacturing, GlobalFoundries, Infineon, Samsung et STMicroelectronics une technologie de gravure en 28 nm avec portes HKMG ( High-k Metal Gate ) et support CMOS.

Le même groupe avait déjà participé au développement de la technologie de gravure en 32 nm HKMG. Le nouveau cadre de travail vise plus particulièrement des appareils mobiles pour lesquels la consommation d'énergie est un facteur limitant, comme les smartphones et les futurs appareils mobiles connectés de type MID ( Mobile Internet Devices ).


Pour les besoins des appareils mobiles futurs
Un kit d'évaluation est en réalité disponible depuis décembre 2008, avec un premier volume de production attendu d'ici le second semestre 2010. Les clients engagés dans le processus de gravure en 32 nm auront d'ailleurs la possibilité de migrer vers la gravure en 28 nm et peuvent dès à présent envisager son utilisation dans leurs produits futurs.

Un processeur gravé en 28 nm offrirait des performances accrues de 40% et une consommation d'énergie réduite de plus de 20% par rapport à son équivalent gravé en 45 nm ( comme le processeur Intel Atom ), pour une empreinte divisée par deux, permettant de miniaturiser un peu plus les appareils mobiles.

D'autre part, la complémentarité des processus en 32 et 28 nm va permettre d'assurer la continuité sans surcoût majeur et sans réorganisation importante des sites de production, garantissant des temps de mise sur le marché réduits.